PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機是針對于高校，科學研究所和企業(yè)實驗室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實驗平臺。針對用戶不同的需求，我們提供不同功能附件，在獲得常規(guī)性能的同時，擁有表面鍍膜（涂層），刻蝕，等離子化學反應，粉體等離子體處理等多種能力。

PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng)是一款低成本，適合于科研機構(gòu)實驗室的桌面型科研設(shè)備，整套系統(tǒng)的目的是在4寸以及以下的樣品上進行干法刻蝕。該系統(tǒng)包括反應腔室，真空系統(tǒng)，RF射頻系統(tǒng)，反應氣路系統(tǒng)，電器控制，軟件程序等幾個子系統(tǒng)。

CCP等離子刻蝕機(Plasma Etcher)是一種常用于微納米加工領(lǐng)域的設(shè)備，用于對半導體器件、光學元件、生物芯片等材料進行精細加工和圖案定義。其原理基于等離子體技術(shù)，通過將氣體放電產(chǎn)生等離子體，利用等離子體中的離子和自由基對材料表面進行化學反應和物理刻蝕。

ICP等離子刻蝕機WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計的高性價比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計與靈活的配置方案，獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小，專業(yè)的機械設(shè)計與優(yōu)化的自動化操作軟件使該設(shè)備操作簡便、安全，且工藝穩(wěn)定重復性很好。

PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機設(shè)備是一種用于微納米加工的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于半導體、光電子、納米材料等領(lǐng)域的微細加工和表面處理。等離子刻蝕技術(shù)是半導體制造中的關(guān)鍵步驟，它在制備微電子器件、光電子器件、MEMS、太陽能電池等多種電子產(chǎn)品中發(fā)揮著重要作用。